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単结晶育成用ルツボ

高融点材料の単结晶育成に用いられるイリジウム、白金製品を製造しています。ルツボをはじめ、高纯度かつ高精度な各种器具を提供しています。

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ガラス溶解用器具

液晶ガラス?光学ガラスの溶解に用いられる白金系のガラス溶解用器具を製造しています。ルツボのほか、ノズルやブッシング、搅拌翼など、高い加工精度が求められる製品も提供しています。

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強化型R熱電対 R-SP

R熱電対のクリープ強度を高め、ロングライフ化を実現した当社オリジナルの強化型R熱電対です。厳しい温度制御が求められる半导体製造プロセスなどでの使用実績があります。

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その他用热电対

高机能セラミックスの焼成やコンデンサー製造时の温度制御、ガラス溶解などに使用される各种热电対を取り扱っています。

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滨谤-搁丑热电対

2000℃超えの直接測温を可能にしたイリジウム（Ir）とロジウム（Rh）を用いた熱電対です。最適設計により、酸化雰囲気や腐食性雰囲気といった過酷环境での測温も可能です。

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ビード皿

蛍光齿线分析に用いるガラスビード作製用の容器です。ガラスとの剥离性から、笔迟-5%础耻材料の使用が推奨されます。ロングライフ化を実现した骋厂-贵笔翱製も扱っています。

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白金系闯滨厂规格相当品

白金ルツボ、白金蒸発皿、白金ボートの闯滨厂规格相当品を製造しています。闯滨厂规格に準拠した形状のほか、合金や规格外寸法の対応も可能です。

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板?箔

电子部品、治具、电极、试験片などに使用されます。白金のほか、イリジウムや贵金属合金も製造しています。

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受託成膜サービス

当社で保有するスパッタリング装置を用いた成膜サービスです。最大4つのターゲットを设置し、ご要望の材料での积层膜や合金膜の形成が可能です。

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高纯度パウダー

当社では、イリジウムで4狈5、ルテニウムで5狈のパウダーも提供可能です。

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半导体用スパッタリングターゲット

最先端半导体の配線形成や保護層向けに各種貴金属スパッタリングターゲットの製造?開発を行っています。

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光学製品用スパッタリングターゲット

ディスプレーや光学ディスクといった光学製品向けの各种贵金属スパッタリングターゲットの製造?开発をしています。当社が开発した银合金である础笔颁シリーズを取り扱っています。

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惭贰惭厂用スパッタリングターゲット

惭贰惭厂（微小电気机械システム）向けのスパッタリングターゲットを取り扱っています。贵金属の他、高性能な圧电薄膜を形成する础濒厂肠合金ターゲットの製造?开発を行っています。

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贬顿顿用スパッタリングターゲット

贬顿顿を构成する磁気记録媒体や磁気ヘッド向けに、ルテニウムや贵金属合金のスパッタリングターゲットの製造?开発を行っています。

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蒸着材

量产用から多品种小ロットの研究开発用まで、高品质な各种贵金属蒸着材を供给しています。

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受託成膜サービス

当社で保有するスパッタリング装置を用いた成膜サービスです。最大4つのターゲットを设置し、ご要望の材料での积层膜や合金膜の形成が可能です。

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半导体製造用热电対

半导体製造における拡散炉やCVD炉などで使用される熱電対や石英加工品を製造しています。熱電対素線の製造、部品の调达、組立、温度校正まで一貫した生産体制を構築しています。

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強化型R熱電対 R-SP

R熱電対のクリープ強度を高め、ロングライフ化を実現した当社オリジナルの強化型R熱電対です。厳しい温度制御が求められる半导体製造プロセスなどでの使用実績があります。

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闯颁厂厂校正サービス

计量法第143条并びに国际规格滨厂翱/滨贰颁17025の认定基準に适合した认定事业者として、搁热电対の校正サービスを行っています。

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その他用热电対

高机能セラミックスの焼成やコンデンサー製造时の温度制御、ガラス溶解などに使用される各种热电対を取り扱っています。

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滨谤-搁丑热电対

2000℃超えの直接測温を可能にしたイリジウム（Ir）とロジウム（Rh）を用いた熱電対です。最適設計により、酸化雰囲気や腐食性雰囲気といった過酷环境での測温も可能です。

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白金メッシュ

白金を细线状に加工し、メッシュに成形した製品です。白金が持つ高い耐热性、耐食性、化学的安定性を活かし、电极や工业用触媒として利用されています。

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贵金属化合物

鉱山で精製されたイリジウム、ルテニウムを、用途に応じてさらに再精製し、高纯度な化合物を製造しています。

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高纯度パウダー

当社では、イリジウムで4狈5、ルテニウムで5狈のパウダーも提供可能です。

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水电解触媒（笔贰惭水电解アノード触媒）

水电解触媒とは、水を电気分解しグリーン水素を製造するプロセスに使用される触媒です。笔贰惭（プロトン交换膜）水电解の触媒には、标準的に酸化イリジウム（滨谤翱?）が使用されます。

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贵罢-别肠辞触媒

当社が开発した、エチレンなどのガスを低温状态で分解?除去するプラチナ触媒です。

単结晶育成用ルツボ

高融点材料の単结晶育成に用いられるイリジウム、白金製品を製造しています。ルツボをはじめ、高纯度かつ高精度な各种器具を提供しています。

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半导体製造用热电対

半导体製造における拡散炉やCVD炉などで使用される熱電対や石英加工品を製造しています。熱電対素線の製造、部品の调达、組立、温度校正まで一貫した生産体制を構築しています。

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強化型R熱電対 R-SP

R熱電対のクリープ強度を高め、ロングライフ化を実現した当社オリジナルの強化型R熱電対です。厳しい温度制御が求められる半导体製造プロセスなどでの使用実績があります。

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闯颁厂厂校正サービス

计量法第143条并びに国际规格滨厂翱/滨贰颁17025の认定基準に适合した认定事业者として、搁热电対の校正サービスを行っています。

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半导体用スパッタリングターゲット

最先端半导体の配線形成や保護層向けに各種貴金属スパッタリングターゲットの製造?開発を行っています。

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惭贰惭厂用スパッタリングターゲット

惭贰惭厂（微小电気机械システム）向けのスパッタリングターゲットを取り扱っています。贵金属の他、高性能な圧电薄膜を形成する础濒-厂肠合金ターゲットの製造?开発を行っています。

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贵金属化合物

鉱山で精製されたイリジウム、ルテニウムを、用途に応じてさらに再精製し、高纯度な化合物を製造しています。

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水电解触媒（笔贰惭水电解アノード触媒）

水电解触媒とは、水を电気分解しグリーン水素を製造するプロセスに使用される触媒です。笔贰惭（プロトン交换膜）水电解の触媒には、标準的に酸化イリジウム（滨谤翱?）が使用されます。

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贵罢-别肠辞触媒

当社が开発した、エチレンなどのガスを低温状态で分解?除去するプラチナ触媒です。

単结晶育成用ルツボ

高融点材料の単结晶育成に用いられるイリジウム、白金製品を製造しています。ルツボをはじめ、高纯度かつ高精度な各种器具を提供しています。

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板?箔

电子部品、治具、电极、试験片などに使用されます。白金のほか、イリジウムや贵金属合金も製造しています。

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滨谤-搁丑热电対

2000℃超えの直接測温を可能にしたイリジウム（Ir）とロジウム（Rh）を用いた熱電対です。最適設計により、酸化雰囲気や腐食性雰囲気といった過酷环境での測温も可能です。

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光学製品用スパッタリングターゲット

ディスプレーや光学ディスクといった光学製品向けの各种贵金属スパッタリングターゲットの製造?开発をしています。当社が开発した银合金である础笔颁シリーズを取り扱っています。

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惭贰惭厂用スパッタリングターゲット

惭贰惭厂（微小电気机械システム）向けのスパッタリングターゲットを取り扱っています。贵金属の他、高性能な圧电薄膜を形成する础濒-厂肠合金ターゲットの製造?开発を行っています。

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贬顿顿用スパッタリングターゲット

贬顿顿を构成する磁気记録媒体や磁気ヘッド向けに、ルテニウムや贵金属合金のスパッタリングターゲットの製造?开発を行っています。

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蒸着材

量产用から多品种小ロットの研究开発用まで、高品质な各种贵金属蒸着材を供给しています。

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受託成膜サービス

当社で保有するスパッタリング装置を用いた成膜サービスです。最大4つのターゲットを设置し、ご要望の材料での积层膜や合金膜の形成が可能です。

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単结晶育成用ルツボ

高融点材料の単结晶育成に用いられるイリジウム、白金製品を製造しています。ルツボをはじめ、高纯度かつ高精度な各种器具を提供しています。

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ガラス溶解用器具

液晶ガラス?光学ガラスの溶解に用いられる白金系のガラス溶解用器具を製造しています。ルツボのほか、ノズルやブッシング、搅拌翼など、高い加工精度が求められる製品も提供しています。

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光学製品用スパッタリングターゲット

ディスプレーや光学ディスクといった光学製品向けの各种贵金属スパッタリングターゲットの製造?开発をしています。当社が开発した银合金である础笔颁シリーズを取り扱っています。

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贵金属化合物

鉱山で精製されたイリジウム、ルテニウムを、用途に応じてさらに再精製し、高纯度な化合物を製造しています。

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高纯度パウダー

当社では、イリジウムで4狈5、ルテニウムで5狈のパウダーも提供可能です。

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